Semiconductor tinggi - unit pemisahan udara kesucian

Teknologi Teras

Ultra - Bersih Pretreatment:"Tiga - penapisan peringkat + penyerapan dwi + deoxygenation pemangkin" -penapis ULPA dan tinggi- molekul suhu SIEVEs mengeluarkan air (embun titik kurang daripada atau sama dengan -90 darjah) Yayasan untuk penyulingan.
 

Penyucian penyulingan kriogenik:"Multi - menara cascade + tinggi - pembungkusan kecekapan" - Menara utama menggunakan 316L pembungkusan beralun untuk pemisahan awal ke kesucian 5N. Menara penapisan nitrogen/argon ditambah untuk mencapai kesucian nitrogen akhir 7N dan kesucian argon 7.5N, mengeluarkan kekotoran jejak (metana kurang daripada atau sama dengan 0.05ppb).

 

Ultra - Clean Post - Rawatan:Penyucian eksklusif untuk mencegah pencemaran sekunder - penapis penapis PTFE zarah lebih besar daripada atau sama dengan 0.01μm, lajur pertukaran ion mengurangkan ion logam, dan kanser karbon yang diaktifkan mengawal VOC kurang daripada atau sama dengan 0.05ppb.
 

Kawalan penghantaran yang stabil:Tinggi - Precision ditutup - sistem gelung - Semiconductor - gred MFC, 316L EP - piping gred (RA kurang daripada atau sama dengan 0.2μm)

 

prinsip kerja

 

 

 

Multi - Prinsip Pretreatment Komposit Peringkat

Hubungan peringkat tiga - "penapisan + penjerapan + pemangkinan": penapis ulpa dan tinggi - suhu molekul suhu mengeluarkan air (embun titik kurang daripada atau sama dengan -90 darjah) kesucian tinggi.

 

 

Deep - penyulingan sejuk dan prinsip pemisahan pecahan

Mengeksploitasi perbezaan titik mendidih antara oksigen, nitrogen, dan argon, pelbagai lajur digunakan dalam siri untuk pembersihan: lajur utama, dengan pembungkusan 316L, mencapai pemisahan awal hingga 5N; Lajur penapisan nitrogen/argon (-196 darjah) menghilangkan kekotoran jejak, akhirnya mencapai kepekatan nitrogen 7N dan kepekatan argon 7.5N (metana kurang daripada atau sama dengan 0.05 ppb).

 

 

Ultra - Post Clean - Prinsip Pencegahan Pencemaran Rawatan

Penyucian proprietari menghalang pencemaran sekunder: Penapis PTFE, lajur pertukaran ion mengurangkan ion logam (kurang daripada atau sama dengan 0.01 ppb), dan aktif karbon mengaktifkan VOC kurang daripada atau sama dengan 0.05 ppb, memastikan kebersihan gas.

 

 

Tinggi - ketepatan ditutup - gelung menyampaikan prinsip kawalan

"Tinggi - Kawalan Precision + Piping Bersih": Semiconductor - Gred MFC dan 316L EP - piping gred (RA kurang daripada atau sama dengan 0.2μm) sepenuhnya dikimpal secara automatik untuk memastikan kesucian yang stabil dan tidak berkesudahan.

 

1. Bolehkah kesucian gas yang dihasilkan oleh peralatan ini disesuaikan dengan keperluan proses semikonduktor yang berbeza?

Kami boleh menyesuaikan penyelesaian kesucian berdasarkan keperluan proses tertentu. Dengan menyesuaikan proses menara penapisan dan post - modul pemprosesan, kita dapat mencapai output yang stabil yang memenuhi keperluan proses 14nm. Tinggi - Gas kesucian untuk proses lanjutan, termasuk yang di bawah, boleh dioptimumkan untuk peningkatan proses masa depan tanpa memerlukan penggantian peralatan lengkap.
 

2. Bagaimana kita dapat mencegah pencemaran gas sekunder semasa operasi peralatan? Pengeluaran semikonduktor memerlukan tahap kebersihan yang sangat tinggi.

Ini dipastikan dalam dua cara: Pertama, Ultra yang berdedikasi - Sistem Rawatan Bersih - menghilangkan zarah kecil dan ion logam melalui proses seperti ultrafiltrasi dan pertukaran ion. Kedua, proses penghantaran menggunakan bahan paip khusus dan teknik kimpalan yang dioptimumkan untuk meminimumkan penjerapan pencemaran pada dinding paip, sekali gus menghalang pencemaran gas sekunder sepanjang keseluruhan proses.
 

3. Semasa operasi peralatan, aliran gas dan turun naik tekanan boleh menjejaskan pemprosesan semikonduktor. Bagaimanakah kita dapat memastikan parameter yang stabil?

Sistem kawalan gelung yang tinggi - ditutup -, ditambah dengan pengawal aliran profesional untuk pelarasan parameter masa - dan reka bentuk paip yang dioptimumkan, dengan berkesan mengawal aliran dan tekanan turun naik, memastikan parameter bekalan gas yang stabil.
 

4. Adakah kompleks penyelenggaraan peralatan? Adakah penyelenggaraan akan mempengaruhi operasi berterusan barisan pengeluaran semikonduktor?

Proses penyelenggaraan yang mudah membolehkan amaran awal penyelenggaraan komponen teras melalui pemantauan dalam talian. Sistem ini juga menyokong "penyusunan semula luar talian + sambungan dalam talian." Dengan model penyelenggaraan yang komprehensif, penyelenggaraan kritikal hanya memerlukan downtime singkat, dan pelan bekalan gas sementara akan dibangunkan untuk meminimumkan gangguan kepada garis pengeluaran.

5. Jika fab semikonduktor memperluaskan kapasiti pada masa akan datang, bolehkah peralatan sedia ada diperluas? Adakah pengembangan ini sukar?

Peralatan telah membina - dalam port pengembangan. Pengembangan kapasiti hanya memerlukan penambahan modul penapisan yang sepadan dan menyampaikan komponen, tanpa membongkar sistem penyulingan teras. Pengiraan proses terperinci dan prefabrication dilakukan sebelum pengembangan, mengakibatkan tempoh pembinaan tapak - dan kerumitan minimum, membolehkan penyesuaian pesat kepada keperluan pertumbuhan kapasiti.

Cool tags: Semikonduktor tinggi - Unit Pemisahan Udara Gas Puriti, China Semiconductor Tinggi - Unit Pemisahan Udara Gas Puriti, Pembekal, Kilang